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INM 200 UV是晶圆与光罩检视的光学显微镜(包括液晶显示板LCD,光碟CD,硬碟Hard-disc,品管与制程管理应用,目前,也包括许多微机电应用MEMS, Nanotechnology ) ,是先进的半导体厂或电子厂所必备的设备.具有Leica独家的HC ( Harmonic Contrast )光学技术, UV ( 120 nm )技术,以及DUV ( 80 nm )技术.提供光学平衡管理,超高光学解析,让你看到次微米解析,达到光学解析理论的极限.使用上具人性化的人因公学设计,自动化控制提供zui高的投资与使用效益. Class-1的规划,合符半导体制程所需. · Ergonomic · 8”/200MM wafer capability · Unique features of the INM200 , excellent for visualizing extremely fine detail. · Objective magnifications from 1.6x to 250x and magnification changer · Resolution down to 0.13um · Full automation · Wafer handlers available · Mask and Wafer Inspection · Laser Auto focus · RS232 Interface for remote control · Confocal, UV and DUV Systems · BF, DF, Interference contrast fluorescence |