品牌:上海
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54X工业检测显微镜配有大移动范围的载物台、落射照明器、平场无限远长工作距离明暗场物镜、大视野目镜,其采用了优等的无限远校正光学系统,图像清晰,衬度好,是针对半导体工业、硅片制造业、电子信息产业、冶金工业开发的,作为高级工业显微镜使用。可进行明暗场、落射偏光和微分干涉的观察,广泛用于工厂、研究机构、高等院校对硅片、电路基板、裂缝探究、精密模具的监测分析。该显微镜配有三目镜管可选配摄像装置和摄影装置,并连接电脑再配置测量软件或金相图像分析软件,便可成为一台微机型工业检测显微镜。总放大倍数:50X-800X
性能特点:
性能特点:
1、采用当今为先进的无限远光学系统
2、采用大工作台和无限远长距平场物镜,适合大工件的检查
3、采用大视野目镜和无限远长距平场物镜配置,视场平坦并且清晰
3、采用大视野目镜和无限远长距平场物镜配置,视场平坦并且清晰
4、配置了偏光、暗场等装置,可进行明暗场和微分干涉观察,功能强大,用途广泛
5、采用落射照明装置。内置视场光栏,孔径光栏, 12V100W卤素灯照明, 亮度均匀可调
6、三目镜筒可自由切换目视观察与显微摄影,摄影时可100%通光,适合低照度拍摄,可接多种摄像装
一、显微镜技术参数:
序号
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名称
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技术参数
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1
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平场目镜
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大视野WF10XΦ25mm
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2
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平场分划目镜
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WF10X/Φ20mm (0.1格值)
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3
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无穷远长工作距离平场物镜
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(放大倍数/数值孔径/工作距离)
PL5X/0.10/29.4、 PLL10X/0.25/16、PLL20X/0.40/10.6、PLL40X/0.60/5.4、PLL80X/0.75/4.0 |
4
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总放大倍数
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50X-800X
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5
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三目观察头:
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30°倾斜
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6
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物镜转换器:
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五孔带DIC、明暗场插孔
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7
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粗微调调焦范围:
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30mm,粗微动同轴调焦, 微动格值0.002mm
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8
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载物台:
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双层移动平台 尺寸350X310mm 移动范围: 250X250mm
玻璃平台:尺寸268×198mm 移动范围:250×250mm |
9
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载物台移动:
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具有快速手推功能,可实现快速到位
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10
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偏光装置
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检偏镜可360°转动,起偏镜、检偏镜均可移出光路
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11
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DIC暗场装置
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DIC、暗场插件均可移出光路
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12
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落射照明:
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亮度可调 卤钨灯泡 12V100W 落射照明器带视场光栏、孔径光栏
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13
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仪器重量
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净重35kg 毛重40kg
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14
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仪器尺寸
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仪器尺寸40X50X47(cm) 包装尺寸59X49X53 (cm)
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二、选购件技术参数:
序号
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名称
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技术参数
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1
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摄像头
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①日本JVC摄像头+图像采集卡
具有单张、定时、连续采集图像,连接多媒体,打印输出等功能 |
②数字摄像头130万、200万、320万、500万像素
具有单张、定时、连续采集图像,显示比例尺,测量等功能,可以连接多媒体、打印、EMAIL等多种方式输出。 |
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③数码相机+基本测量管理软件
1500万像素佳能单反相机,具有实时采集图像,图像融合,显示比例尺,测量等功能,可以连接多媒体,打印,EMAIL等多种方式输出 |
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2
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图像分析软件
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①专业定量金相分析软件UV-MA
包含多达400多项完全符合GB、YB、JB、ASTM等标准自动评级项目,具有对金相图像进行自动评级、图谱比对、定标测量、定倍打印、查看图谱、输出报表和图像融合等多种功能。 |
②矿相分析软件UV-K
通过对显微图像的优化着色处理及测量来对矿相进行定量分析。可单张、连续采集;可显示标尺;可对显微图像进行长度、角度、半径、周长、面积等多种测量;可以连接多媒体、打印、EMAIL等多种方式输出。 |
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③金相分析软件UV-ME
界面清晰、操作简单、基本功能齐全,价格合理,同时又可为根据用户的需求免费加装十项符合国家GB和行业JB/YB标准的金相分析项目。可单张、连续采集;可显示标尺;可对显微图像进行长度、角度、半径、周长、面积等多种测量;可以连接多媒体、打印、EMAIL等多种方式输出。 |
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④基本测量管理软件UV
可单张、定时、连续采集;可显示标尺、放大倍数;可对显微图像进行长度、角度、半径、周长、面积等多种测量;可以连接多媒体、打印、EMAIL等多种方式输出。 |
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3
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摄像接口
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摄像头接口:1X、0.5X
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数码相机接口:1X、2.5X/4X
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4
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物镜
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平场消色差物镜:60X
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5
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标尺
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物镜测微尺0.01mm
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目镜测微尺:0.1尺形、0.05尺形、0.5网形、0.2网形、0.1坐标形
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