HZF 1600℃真空气氛炉
2011-12-17 10:46  点击:940
价格:未填
发送询价

一、真空气氛炉应用领域   

该真空电阻炉以1800型硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,真空电阻炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理;也可以用于特殊材料的热处理。

二、真空气氛炉主要特点   
炉门口安装有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进入,并有多处洗炉膛进气口,出气口处有燃烧嘴,可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体,能抽真空,真空度可达5pa,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

三、真空气氛炉规格型号

设备型号

HZF1600-20

HZF1600-30

HZF1600-30A

HZF1600-40

zui高温度

1600℃

1600℃

1600℃

1600℃

额定温度

1500℃

1500℃

1500℃

1500℃

控制精度

±1℃

±1℃

±1℃

±1℃

炉膛尺寸(mm)

200×200×200 (D×W×H)

300×200×200 (D×W×H)

300×250×250 (D×W×H)

400×300×300 (D×W×H)

发热元件

硅钼棒

硅钼棒

硅钼棒

硅钼棒

冷态极限真空

10pa

10pa

10pa

10pa

冷态压升率

≦10~20pa/h

≦10~20pa/h

≦10~20pa/h

≦10~20pa/h

zui大功率

4kw

7kw

9kw

16kw

销售热线: ,,欢迎客户来电咨询。

选配:真空计,真空泵,气氛保护系统,氧含量测定仪,气体流量计,RS485接口。

联系方式
公司: (未注册)