? Etching, Ashing, De-oxidation System 
? Multi-generator for High Density Plasma 

SPECIFICATIONS 
? High Density Plasma Etching Mode 
? 4", 6", 8" Substrate Loading 
? Single or Multi LF/RF Generator 
? Up to 8 Process Gas Channels 
? Integration with Ultrasonic Source 

APPLICATIONS 
? De-oxidation for Electronic Packaging Industry 
? Plasma Annealing for metal Science