1、 采用独特设计的真空光室可测定非金属元素中C、P、S以及各种合金元素含量，测定结果，重现性及长期稳定性佳。

     2、 独特的真空光学室结构设计，使真空室容积更小，抽真空速度不到普通光谱仪的一半。将入射窗与真空室分离使入射窗日常清洗维护方便快捷。

     3、光学系统自动进行谱线扫描，自动光路校准，确保谱线接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。

    4、独特的激发台及氩气气路设计，大大降低了氩气使用量。灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析。

采用的喷射电技术。在激发状态下，电周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提高激发精度；

    7、配上专用的光谱操作软件完全兼容于windows系统。同时可以根据客户需求配备各种语言版本。软件操作简单即使没有任何光谱仪知识及操作经验的人员只需经过简单的知识培训即可上手使用。

     8、采用高性能FPGA、DSP及ARM处理器，具有超高速数据采集分析功能，并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、、激发光源等模块的运行状况。

    9、全数字化等等离子激发光源，超稳定能量释放在氩气环境中激发样品。全数字激发脉冲，确保激发样品等离子体能量超高分辨率和高稳定输出。满足各种不同材料的激发要求。

   10、样品激发台采用铜火花台底座，钨材料电；铜火花台底座为激发台提供较好的散热及坚固等特性，同时钨电使用寿命长，耐高温等特性也提高了激发的性能；电自吹扫功能的设计，为激发创造了良好的环境，也使激发台清洁电更加容易。

技术参数

 分析基体： Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等

 光学结构： 帕邢-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统

 波长范围： 130-800nm

 焦距 ：400mm

 光栅刻线 ：3000条/mm

 探测器 高性能：CCD阵列

 电： 钨材喷射电

 分析间隙 ：样品台分析间隙：3.4mm

 光源类型： 全新可调节数字化光源，高能预燃技术（HEPS）

 激发频率 ：100-1000Hz

 zui大放电电流： 400A

 真空系统： 真空软件自动控制、监测