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抛物面红外线镜面反射快速升温真空炉,四川小型真空管式炉厂家一、主要用途:
可广泛应用于冶金、航天材料、碳化硅晶片、耐高温的金属材料、和陶瓷的表面处理、热处理、焊接等领域,在真空条件性进行快速热熔解,高温烧结、高温快速反应、真空淬火等工艺试验。
二、主要技术指标:
Ø zui高温度:1400℃;
Ø 升温速度:≥300℃/min
Ø 真空度达:6.7×10-2Pa
Ø 反射基板:金色金面
Ø 炉管尺寸范围:Φ80
Ø 加热区长度:300mm
Ø 均温区长度:100mm 抛物面红外线镜面反射快速升温真空炉,四川小型真空管式炉厂家
Ø 温度控制精度:±1℃
Ø 设备重量约:35KG
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