高速Mapping椭偏仪(适用透明基板)ME-210-T
椭偏仪适用透明基板的高速Mapping椭偏仪 ···可测量透明基板上的光阻膜及配向膜分布
椭偏仪,膜厚测量仪,光学膜厚测量仪椭偏仪为一种光学系膜厚测量装置,膜厚测量仪这个装置的特点是可以测量1nm一下的薄膜,也适合测量玻璃等透明基板上的薄膜。
ME-210-T 活用了本公司特有的偏光Senor 技术,将不能变为可能,以往的技术是无法测量0.5mm厚的玻璃基板,在这项技术下,可进行薄膜的测量,举例来说显示器用的ITO膜或配向膜的评估,也可运用ME-210-T 轻松达成。
ME-210-T的膜厚分布资料,膜厚测量仪定会对的薄膜产品的生产有大的用途。
ME-210-T膜厚测量仪的特点
1, 的测量速度(每分约1000点:)可短时间内取得高密度的面分布数据。
2, 微小领域量测(20un左右)可简单锁定&测量任一微小区域。
3, 可测量透明基板
适用于解析玻璃基板上的薄膜
膜厚测量仪的测量实例
涂布膜边缘扩大测量
可阶段性扩大微小领域,然后获得详细的膜厚分布数据
GaAs Wafer 上酸化膜厚的分布测量
缩小膜厚显示范围,膜厚差距不大的样品,也可以简单评估、比较其分布状况
膜厚测量仪的设备参数
项目 |
规格 |
光源 |
半导体激光(636nm、class2) |
zui小测量领域 |
广域模式:0.5mm×0.5mm |
高精细模式:5.5um×5.5um |
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入射角 |
70『deg』 |
测量再现性 |
膜厚:0.1nm 折射率:0.001 ※1 |
zui大测量速度 |
1000point/min(广域模式) |
5000point/min(高模式) |
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载物台 |
行程:XY200mm以上 zui大移动速度:约40mm/scc |
尺寸/重量 |
约650×650×1740mm(W×D×H)/约200kg |
电源 |
AC100V |
备注 |
※1:此数值是以广域模式测量SiO2膜(膜厚约100mm)其中一点,重复测量100次后的标准偏差值 |