技术说明

1.小化样品制备的数量，低真空和 ESEM 功能可实现缘及/或含水样品的无荷电成像和分析

2.通过 Quanta 的“经由透镜”压差真空技术，可在高真空和低真空条件下对导电和缘样品进行 EDS 和 EBSD 分析，提高分析能力。 稳定的高射束电流（高达 2 μA）可实现快速准确的分析

3.使用原位样品台在 - 165 °C - 1500 °C 环境温度条件下执行各种自然状态样品的动态原位分析

4.使用可选的射束减速模式完成表面成像，以获取导电样品的表面和成分信息

5.易用和直观性令初学者也能进行操作。

应用说明

NanoCharacterization（纳米级表征）金属及合金、氧化/腐蚀、断口、焊接点、抛光片、磁性和超导材料、陶瓷、复合材料、塑料薄膜/涂层地质断面、矿物软材料：聚合物、药品、过滤器、凝胶体、薄纱织品、种植材料微粒、多孔材料、纤维。