持久型小型溅射仪
一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，
磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
需要镀膜的样品持久型小型溅射仪
1、电子束敏感的样品:
主要包括生物样品，塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；
2、非导电的样品:
由于样品不导电，其表 面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消除荷电效应，可在样 品表面镀一层金属导电 层，镀层作为一个导电 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量。
持久型小型溅射仪厂家供应技术参数；
|
控制方式 |
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
|
溅射电源 |
直流溅射电源 |
|
镀膜功能 |
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
|
功率 |
≤1000W |
|
输出电压电流 |
电压≤1000V 电流≤1A |
|
真空 |
机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa |
|
溅射真空 |
≤30Pa |
|
挡板类型 |
电控 |
|
真空腔室 |
石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm |
|
样品台 |
可旋转φ62 （可安装φ50基底） |
|
样品台转速 |
8转/分钟 |
|
样品溅射源调节距离 |
40-105mm |
|
真空测量 |
皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa） |
|
预留真空接口 |
KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |