发送询价
均温氧化扩散炉设备特点:1.温场均匀,恒温区长度及精度:300~1250mm 800~1200℃±1℃
2.具有强大的软件功能,NBD-101EP嵌入式操作系统,用户可以方便地修改工艺控制参数,并可随时显示各种工艺状态;配有故障自诊断软件;
3.程序可以实现手/自动工作,在停电或中途停机后,再次启动可以根据工艺手动升温,节省工艺时间;
4.具有多种工艺管路,可供用户方便选择;
5.冷端检测环境温度进行温度补偿,避免环境温度变化,对炉膛温度产生影响,避免层间干扰;
6.可存储多组PID参数供系统运行调用功能,具有多点温度补偿
7.气体流量采用数字化精确控制,采用模拟信号闭环控制,强弱电分开,各种数据交互采用标准总线,提高抗干扰能力,保证数据安全;气体打开具有缓启动功能;
8.具有多种报警功能及安全保护功能;
9.恒温区自动调整,串级控制,可准确控制反应管的实际工艺温度;
10.压力自动调整技术,将压力参数引入晶体硅氧化工艺,有效减小了尾部排风对工艺的干扰,减小由排风引起的工艺波动。
均温氧化扩散炉设备参数:
型号 |
T1200-250T3均温炉氧化扩散 |
||||||
可配工艺管外径 |
炉管外径152mm 适用于3";炉管外径252mm 适用于6"; 炉管外径300mm 适用于8" |
||||||
温度控制范围 |
300~1150 ℃ |
||||||
恒温区长度及精度 |
300~1250mm(依客户要求定) 300~800 ℃±1.5℃, 800~1100 ℃±1℃ |
||||||
可控升降温速率 |
升温速率:≦15℃/min 降温速率≦5℃/min |
||||||
加热区个数 |
3区,4区,5区,6区(依客户要求定) |
||||||
送料方式 |
手动送料 |
||||||
冷却系统 |
水冷2-4Kgf/cm2,8L/min;+上接排风冷≈25m3/min; |